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진공을 만드는 기술을 알아보자 (1) 여러분은 반도체 장비를 사용해본 적이 있으신가요? 반도체 장비는 미세화 공정의 끝을 달리는 기술을 다루는 만큼 그 조건 또한 매우 까다롭습니다. 나노 단위의 공정을 진행함에 따라 나노 단위의 오염물질, 공기 입자 수 등의 사소한 외인에도 큰 변화가 발생할 수 있습니다.그 중, 증착 장비는 bottom up 방식을 취하고있어, 증착 과정에서의 불순물을 최소화하고, 에너지를 가진채 wafer에 도달하게 해야하므로, 조건을 맞추어주는 것이 아주 중요한 장비중 하나입니다. (자세한 정보는 deposition 카테고리에서 다루겠습니다.) 정말 까다롭죠... 오늘은 그 까다로운 조건 중 하나인 진공을 잡는 기술에 대해 소개를 드리려합니다! 여기서 다루는 기술은 비단 반도체 산업 뿐 아니라 진공을 요하는 산업 전반에..
진공을 만드는 기술을 알아보자! (2) 여러분 안녕하세요. 오늘은 저번 포스팅에 이어서 vacuum을 형성할 수 있는 pump의 종류와 그 원리에 대해 알아보겠습니다!오늘 pump에 대해 설명하면서 지난 포스팅에서 설명한 단어들을 쭉 사용할 예정이니 꼭 이전 포스팅을 보신 후에 오시길 부탁드릴게요! 먼저 pump는 만들고자하는 진공도에 따라서 분류할 수 있고, pumping 방식에 따라서도 분류할 수 있습니다.진공도 Rough pumpRotary oil sealed mechanical pumpRoots pumpVenturi pump Booster pumpHigh vacuum pumpDiffusion pump Cryo pumpTurbomolecular pumpUltra high vacuum pumpSputter ion pump 방식 가스 배출식..
XRD 분석, 그래프를 분석해보자! (2) 오늘은 XRD 그래프에서 peak가 일정한 폭을 가진채 나타나는 이유에 대해 알려드리겠습니다!여러분은 sherrer equation에 대해 들어보신적이 있나요? sherrer equation은 XRD 그래프 분석을 통해 결정의 크기를 재는데 이용할 수 있는 관계식인데요, 바로 여기 그래프의 peak가 발생하는 이유와 엮어서 이해할 수 있습니다. 이상적인 상황(위), 실제 peak의 형태(아래)이상적인 상황이라면, bragg의 법칙을 만족시키는 특정 각도에서만 peak가 발생해야하지만, 사실은 오른쪽의 그래프처럼 폭을 가진 형태로 나타납니다. 이때, 최대 intensity의 절반을 가지는 지점에서의 peak의 폭을 B: FWHM(Full width at half maximum) 또는 반치폭이라고 합니다. ..
XRD 분석, 그래프를 분석해보자! (1) 신소재 공학도 분들이라면, 질리도록 들을 수 밖에 없는 그 이름, X선 회절 분석에 대한 주제로 찾아왔습니다!여러분은 XRD 분석 실험에 대해 들어보신 적이 있으신가요? XRD는 X-Ray Diffraction의 약자로, 분석하고자 하는 소재의 sample에 특정한 파장을 가진 X선을 조사하여, 소재의 고유한 결정면에서 회절하여 나온 X선을 분석해 소재의 결정구조를 분석하는 실험 방법입니다!! 그렇다면, XRD 실험을 진행한 후 도출 된 그래프를 분석할 수 있어야겠죠! 꽤 내용이 길기때문에 여러차례로 나누어 설명을 드릴 계획입니다!출처:https://rkskejfj.tistory.com/14다음 그림은, 일반적으로 볼 수 있는 XRD 그래프입니다. x축은 X선을 sample에 입사한 각도이고, y축은 d..